- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Kina Tantalkarbidbelegg produsent, leverandør, fabrikk
VeTek semiconductor er en ledende produsent av tantalkarbidbeleggmaterialer for halvlederindustrien. Våre hovedprodukttilbud inkluderer CVD-tantalkarbidbeleggdeler, sintrede TaC-beleggsdeler for SiC-krystallvekst eller halvlederepitaksiprosess. Bestått ISO9001, VeTek Semiconductor har god kontroll på kvalitet. VeTek Semiconductor er dedikert til å bli innovatør i tantalkarbidbeleggindustrien gjennom pågående forskning og utvikling av iterative teknologier.
Hovedproduktene erTantalkarbidbeleggsavlederring, TaC-belagt avledningsring, TaC-belagte halvmånedeler, Tantalkarbidbelagt planetrotasjonsskive (Aixtron G10), TaC-belagt smeltedigel; TaC-belagte ringer; TaC-belagt porøs grafitt; Tantalkarbidbelegg Grafittsusceptor; TaC-belagt guidering; TaC Tantalkarbidbelagt plate; TaC-belagt Wafer Susceptor; TaC belegg ring; TaC belegg grafittdeksel; TaC Coated Chunketc., renheten er under 5 ppm, kan møte kundens krav.
TaC-beleggsgrafitt lages ved å belegge overflaten av et grafittsubstrat med høy renhet med et fint lag tantalkarbid ved en proprietær prosess for kjemisk dampavsetning (CVD). Fordelen er vist på bildet nedenfor:
Tantalkarbidbelegget (TaC) har fått oppmerksomhet på grunn av dets høye smeltepunkt på opptil 3880°C, utmerket mekanisk styrke, hardhet og motstand mot termiske støt, noe som gjør det til et attraktivt alternativ til sammensatte halvlederepitaksiske prosesser med høyere temperaturkrav, slik som Aixtron MOCVD-system og LPE SiC-epitaksiprosess. Den har også en bred anvendelse i PVT-metoden SiC-krystallvekstprosessen.
Nøkkelfunksjoner:
●Temperaturstabilitet
●Ultra høy renhet
●Motstand mot H2, NH3, SiH4,Si
●Motstand mot termisk lager
●Sterk vedheft til grafitt
●Konform beleggdekning
● Størrelse opp til 750 mm diameter (den eneste produsenten i Kina når denne størrelsen)
Søknader:
● Induktiv varmemottaker
● Resistivt varmeelement
● Varmeskjold
Tantalkarbid (TaC) belegg på et mikroskopisk tverrsnitt:
Parameter for VeTek Semiconductor Tantalkarbidbelegg:
| Fysiske egenskaper til TaC-belegg | |
| Tetthet | 14,3 (g/cm³) |
| Spesifikk emissivitet | 0.3 |
| Termisk ekspansjonskoeffisient | 6,3 10-6/K |
| Hardhet (HK) | 2000 HK |
| Motstand | 1×10-5Ohm*cm |
| Termisk stabilitet | <2500℃ |
| Grafittstørrelsen endres | -10~-20um |
| Beleggtykkelse | ≥20um typisk verdi (35um±10um) |
TaC-belegg EDX-data：
TaC belegg krystallstruktur data:
| Element | Atomprosent | |||
| Pt. 1 | Pt. 2 | Pt. 3 | Gjennomsnittlig | |
| C K | 52.10 | 57.41 | 52.37 | 53.96 |
| M | 47.90 | 42.59 | 47.63 | 46.04 |
- View as
Tantalkarbidbelagt ring
Som en profesjonell innovatør og leder av tantalkarbidbelagte ringprodukter i Kina, spiller VeTek halvleder tantalkarbidbelagt ring en uerstattelig rolle i SiC-krystallvekst med sin utmerkede motstand mot høye temperaturer, slitestyrke og utmerket varmeledningsevne. Velkommen til din videre konsultasjon.
Les merSend forespørsel
Porøs tantalkarbid
VeTek Semiconductor er en profesjonell produsent og leder av porøse tantalkarbidprodukter i Kina. Porøst tantalkarbid produseres vanligvis ved kjemisk dampavsetning (CVD) metode, som sikrer presis kontroll av porestørrelsen og distribusjonen, og er et materialverktøy dedikert til ekstreme miljøer med høy temperatur. Velkommen til din videre konsultasjon.
Les merSend forespørsel
Tantalkarbidring
Som en avansert produsent og produsent av Tantalkarbidringprodukter i Kina, har VeTek Semiconductor Tantalkarbidring ekstremt høy hardhet, slitestyrke, høy temperaturbestandighet og kjemisk stabilitet, og er mye brukt i halvlederproduksjonsfeltet. Spesielt i CVD, PVD, ioneimplantasjonsprosess, etseprosess og waferbehandling og transport, er det et uunnværlig produkt for halvlederbehandling og produksjon. Ser frem til din videre konsultasjon.
Les merSend forespørsel
Støtte for belegg av tantalkarbid
Som en profesjonell Tantalum Carbide Coating Support-produktprodusent og fabrikk i Kina, brukes VeTek Semiconductor Tantalum Carbide Coating Support vanligvis til overflatebelegging av strukturelle komponenter eller støttekomponenter i halvlederutstyr, spesielt for overflatebeskyttelse av nøkkelutstyrskomponenter i halvlederproduksjonsprosesser som f.eks. CVD og PVD. Velkommen til din videre konsultasjon.
Les merSend forespørsel
Tantalkarbid guidering
VeTek Semiconductor er en profesjonell produsent og leder av Tantalum Carbide Guide Ring-produkter i Kina. Vår tantalkarbid (TaC) guidering er en høyytelses ringkomponent laget av tantalkarbid, som vanligvis brukes i halvlederbehandlingsutstyr, spesielt i høytemperatur og sterkt korrosive miljøer som CVD, PVD, etsing og diffusjon. VeTek Semiconductor er forpliktet til å tilby avansert teknologi og produktløsninger for halvlederindustrien, og tar gjerne imot dine ytterligere henvendelser.
Les merSend forespørsel
TaC Coating Rotasjons Susceptor
Som en profesjonell produsent, innovatør og leder av TaC Coating Rotation Susceptor-produkter i Kina. VeTek Semiconductor TaC Coating Rotation Susceptor er vanligvis installert i utstyr for kjemisk dampavsetning (CVD) og molekylærstråleepitaksi (MBE) for å støtte og rotere wafere for å sikre jevn materialavsetning og effektiv reaksjon. Det er en nøkkelkomponent i halvlederbehandling. Velkommen til din videre konsultasjon.
Les merSend forespørsel
Som en profesjonell Tantalkarbidbelegg produsent og leverandør i Kina har vi vår egen fabrikk. Enten du trenger tilpassede tjenester for å møte de spesifikke behovene i din region eller ønsker å kjøpe avansert og holdbar Tantalkarbidbelegg laget i Kina, kan du legge igjen en melding.
