VeTek Semiconductor Silicon Pidestal er en nøkkelkomponent i halvlederdiffusjon og oksidasjonsprosesser. Som en dedikert plattform for å frakte silisiumbåter i ovner med høy temperatur, har Silicon Pidestal mange unike fordeler, inkludert forbedret temperaturuniformitet, optimalisert waferkvalitet og forbedret ytelse til halvlederenheter. For mer produktinformasjon, vennligst kontakt oss.
VeTek Semiconductor silisium susceptor er et rent silisium produkt designet for å sikre temperaturstabilitet i det termiske reaktorrøret under silisium wafer-behandling, og dermed forbedre termisk isolasjonseffektivitet. Behandling av silisiumplater er en ekstremt presis prosess, og temperatur spiller en avgjørende rolle, og påvirker direkte tykkelsen og jevnheten til silisiumplaten.
Silisiumsokkelen er plassert i den nedre delen av ovnens termiske reaktorrør, og støtter silisiumetoblatbærersamtidig som den gir effektiv termisk isolasjon. På slutten av prosessen kjøles den gradvis ned til omgivelsestemperatur sammen med silisiumwaferbæreren.
Gi stabil støtte for å sikre prosessnøyaktighet
Silisiumsokkelen gir en stabil og svært varmebestandig støtteplattform for silisiumbåten i høytemperaturovnskammeret. Denne stabiliteten kan effektivt forhindre at silisiumbåten forskyver seg eller vipper under behandlingen, og unngår dermed å påvirke jevnheten i luftstrømmen eller ødelegge temperaturfordelingen, noe som sikrer høy presisjon og konsistens i prosessen.
Forbedre temperaturensartetheten i ovnen og forbedre waferkvaliteten
Ved å isolere silisiumbåten fra direkte kontakt med ovnsbunnen eller -veggen, kan silisiumbasen redusere varmetapet forårsaket av ledning, og derved oppnå en jevnere temperaturfordeling i det termiske reaksjonsrøret. Dette ensartede termiske miljøet er avgjørende for å oppnå jevnhet i waferdiffusjonen og oksidlaget, noe som i stor grad forbedrer den generelle kvaliteten på waferen.
Optimaliser termisk isolasjonsytelse og reduser energiforbruket
De utmerkede varmeisolasjonsegenskapene til silisiumbasismaterialet bidrar til å redusere varmetapet i ovnskammeret, og forbedrer dermed prosessens energieffektivitet betydelig. Denne effektive termiske styringsmekanismen øker ikke bare syklusen for oppvarming og kjøling, men reduserer også energiforbruket og driftskostnadene, og gir en mer økonomisk løsning for halvlederproduksjon.
Produktstruktur |
Integrert, sveising |
Konduktiv type/doping |
Skikk |
Resistivitet |
Lav motstand (f.eks.<0,015,<0,02...). ; |
Moderat motstand (E.G.1-4); |
|
høy motstand (f.eks. 60-90); |
|
Kundetilpasning |
|
Materialtype |
Polykrystall/Enkeltkrystall |
Krystallorientering |
Tilpasset |