SiC belegg ALD susceptor

VeTek SemiconductorSiC belegg ALD susceptorspiller en viktig rolle i avsetningen av atomlaget (ALD) prosess. Dens nøyaktige temperaturkontroll, jevn gassfordeling, høye kjemiske motstand og utmerkede termiske ledningsevne sikrer ensartethet og høy kvalitet på filmavsetningsprosessen. Hvis du vil vite mer, kan du kontakte oss umiddelbart, og vi vil svare deg i tide!

Nøyaktig temperaturkontroll:

SiC-belegg ALD-susceptor har vanligvis et temperaturkontrollsystem med høy presisjon. Den er i stand til å opprettholde et jevnt temperaturmiljø gjennom hele avsetningsprosessen, noe som er avgjørende for å sikre jevnheten og kvaliteten på filmen.

Jevn gassfordeling:

Den optimaliserte utformingen av SiC-belegg ALD-susceptor sikrer jevn fordeling av gass under ALD-avsetningsprosessen. Strukturen inkluderer vanligvis flere roterende eller bevegelige deler for å fremme jevn dekning av reaktive gasser over hele waferoverflaten.

Høy kjemikaliebestandighet:

Siden ALD-prosessen involverer en rekke kjemiske gasser, er SiC-belegg ALD-susceptor vanligvis laget av korrosjonsbestandige materialer (som platina, keramikk eller høyrent kvarts) for å motstå erosjon av kjemiske gasser og påvirkning av høytemperaturmiljøer.

Utmerket varmeledningsevne:

For å effektivt lede varme og opprettholde en stabil avsetningstemperatur, bruker SiC-belegg ALD-susceptorer vanligvis materialer med høy varmeledningsevne. Dette bidrar til å unngå lokal overoppheting og ujevn avsetning.

Grunnleggende fysiske egenskaper til CVD SiC-belegg:

Produksjonsbutikker:

Oversikt over industrikjeden for halvlederbrikkeepitaxy：