Hva er CVD TAC Coating?

Som vi alle vet,TaChar et smeltepunkt på opptil 3880°C, høy mekanisk styrke, hardhet, motstand mot termisk støt; god kjemisk inerthet og termisk stabilitet overfor ammoniakk, hydrogen, silisiumholdig damp ved høye temperaturer.

CVD TAC belegg, kjemisk dampavsetning (CVD) avtantalkarbid (TaC) belegg, er en prosess for å danne et belegg med høy tetthet og holdbart på et underlag (vanligvis grafitt). Denne metoden innebærer avsetning av TaC på overflaten av underlaget ved høye temperaturer, noe som resulterer i et belegg med utmerket termisk stabilitet og kjemisk motstand.

De viktigste fordelene med CVD TaC-belegg inkluderer:

Ekstremt høy termisk stabilitet: tåler temperaturer over 2200°C.

Kjemisk motstand: kan effektivt motstå sterke kjemikalier som hydrogen, ammoniakk og silisiumdamp.

Sterk vedheft: sikrer langvarig beskyttelse uten delaminering.

Høy renhet: minimerer urenheter, noe som gjør den ideell for halvlederapplikasjoner.

Disse beleggene er spesielt egnet for miljøer som krever høy holdbarhet og motstand mot ekstreme forhold, som for eksempel halvlederproduksjon og høytemperatur industrielle prosesser.

I industriell produksjon er det stor sannsynlighet for at grafitt (karbon-karbon-kompositt)-materialer belagt med TaC-belegg erstatter tradisjonell høyrent grafitt, pBN-belegg, SiC-beleggsdeler osv. I tillegg, innen romfart, har TaC et stort potensial til å brukes som et høytemperatur-antioksidasjons- og anti-ablasjonsbelegg, og har brede bruksmuligheter. Imidlertid er det fortsatt mange utfordringer for å oppnå klargjøring av tett, jevnt, ikke-flakende TaC-belegg på overflaten av grafitt og fremme industriell masseproduksjon.

I denne prosessen er det å utforske beskyttelsesmekanismen til belegget, innovere produksjonsprosessen og konkurrere med det øverste utenlandske nivået avgjørende for tredjegenerasjons halvlederkrystallvekst og epitaksi.