CVD TaC-beleggsdigel
  • CVD TaC-beleggsdigelCVD TaC-beleggsdigel

CVD TaC-beleggsdigel

VeTek Semiconductor er en profesjonell produsent og leder av CVD TaC Coating Crucible-produkter i Kina. CVD TaC Coating Crucible er basert på tantalkarbon (TaC) belegg. Tantalkarbonbelegget er jevnt dekket på overflaten av digelen gjennom prosess for kjemisk dampavsetning (CVD) for å forbedre varmebestandigheten og korrosjonsbestandigheten. Det er et materialverktøy spesielt brukt i ekstreme miljøer med høy temperatur. Velkommen til din videre konsultasjon.

Send forespørsel

produktbeskrivelse

TaC belegg Rotation Susceptor spiller en nøkkelrolle i høytemperaturavsetningsprosesser som CVD og MBE, og er en viktig komponent for wafer-behandling i halvlederproduksjon. Blant dem,TaC belegghar utmerket høytemperaturbestandighet, korrosjonsbestandighet og kjemisk stabilitet, noe som sikrer høy presisjon og høy kvalitet under waferbehandling.


CVD TaC Coating Crucible består vanligvis av TaC Coating oggrafittsubstrat. Blant dem er TaC et keramisk materiale med høyt smeltepunkt med et smeltepunkt på opptil 3880°C. Den har ekstremt høy hardhet (Vickers hardhet opp til 2000 HV), kjemisk korrosjonsbestandighet og sterk oksidasjonsmotstand. Derfor er TaC Coating et utmerket høytemperaturbestandig materiale i halvlederprosesseringsteknologi.

Grafittsubstratet har god varmeledningsevne (termisk ledningsevne er ca. 21 W/m·K) og utmerket mekanisk stabilitet. Denne egenskapen bestemmer at grafitt blir et ideelt beleggsubstrat.


CVD TaC Coating Crucible brukes hovedsakelig i følgende halvlederbehandlingsteknologier:


Wafer produksjon: VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Crucible har utmerket motstand mot høye temperaturer (smeltepunkt opp til 3880°C) og korrosjonsmotstand, så den brukes ofte i viktige wafer-produksjonsprosesser som høytemperaturdampavsetning (CVD) og epitaksial vekst. Kombinert med produktets utmerkede strukturelle stabilitet i miljøer med ultrahøye temperaturer, sikrer det at utstyret kan fungere stabilt i lang tid under ekstremt tøffe forhold, og dermed effektivt forbedre produksjonseffektiviteten og kvaliteten til wafere.


Epitaksial vekstprosess: I epitaksiale prosesser som f.ekskjemisk dampavsetning (CVD)og molekylær stråleepitaksi (MBE), CVD TaC Coating Crucible spiller en nøkkelrolle i å bære. TaC-belegget kan ikke bare opprettholde den høye renheten til materialet under ekstrem temperatur og korrosiv atmosfære, men også effektivt forhindre forurensning av reaktantene på materialet og korrosjon av reaktoren, noe som sikrer nøyaktigheten av produksjonsprosessen og produktkonsistensen.


Som Kinas ledende CVD TaC Coating Crucible-produsent og leder, kan VeTek Semiconductor tilby skreddersydde produkter og tekniske tjenester i henhold til utstyret og prosesskravene dine. Vi håper inderlig å bli din langsiktige partner i Kina.


Tantalkarbid (TaC) belegg på et mikroskopisk tverrsnitt


Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 2Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 3Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 4


Fysiske egenskaper til TaC-belegg


Fysiske egenskaper til TaC-belegg
Tetthet
14,3 (g/cm³)
Spesifikk emissivitet
0.3
Termisk ekspansjonskoeffisient
6,3*10-6/K
Hardhet (HK)
2000 HK
Motstand
1×10-5 Ohm*cm
Termisk stabilitet
<2500℃
Grafittstørrelsen endres
-10~-20um
Beleggtykkelse
≥20um typisk verdi (35um±10um)


VeTek Semiconductor CVD TaC Coating Crucible butikker:


CVD TaC Coating Crucible shops



Hot Tags: CVD TaC Coating Crucible, Kina, produsent, leverandør, fabrikk, tilpasset, kjøp, avansert, holdbar, laget i Kina
Relatert kategori
Send forespørsel
Gi gjerne din forespørsel i skjemaet nedenfor. Vi svarer deg innen 24 timer.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept