Vaffelbærerbrett
  • VaffelbærerbrettVaffelbærerbrett

Vaffelbærerbrett

Vetek Semiconductor spesialiserer seg på å samarbeide med sine kunder for å produsere tilpassede design for Wafer Carrier Tray. Wafer Carrier-brett kan utformes for bruk i CVD-silisiumepitaksi, III-V-epitaksi og III-nitridepitaksi, silisiumkarbidepitaksi. Ta kontakt med Vetek semiconductor angående susceptorkravene dine.

Send forespørsel

produktbeskrivelse

Du kan være trygg på å kjøpe Wafer Carrier-brett fra vår fabrikk.

Vetek semiconductor leverer hovedsakelig CVD SiC-belegg grafittdeler som wafer-bærerbrett for tredje generasjons halvleder SiC-CVD-utstyr, og er dedikert til å tilby avansert og konkurransedyktig produksjonsutstyr for industrien. SiC-CVD-utstyr brukes for vekst av homogene enkrystall-tynne film-epitaksiale lag på silisiumkarbidsubstrat, SiC-epitaksialt ark brukes hovedsakelig til produksjon av kraftenheter som Schottky-diode, IGBT, MOSFET og andre elektroniske enheter.

Utstyret kombinerer prosess og utstyr tett. SiC-CVD-utstyret har åpenbare fordeler i høy produksjonskapasitet, 6/8 tommers kompatibilitet, konkurransedyktige kostnader, kontinuerlig automatisk vekstkontroll for flere ovner, lav defektrate, vedlikeholdsvennlighet og pålitelighet gjennom design av temperaturfeltkontroll og strømningsfeltkontroll. Kombinert med SiC-belagt wafer-bærerbrett levert av vår Vetek Semiconductor, kan det forbedre produksjonseffektiviteten til utstyret, forlenge levetiden og kontrollere kostnadene.

Vetek semiconductors waferbærerbrett har hovedsakelig høy renhet, god grafittstabilitet, høy prosesspresisjon, pluss CVD SiC-belegg, høytemperaturstabilitet: Silisiumkarbidbelegg har utmerket høytemperaturstabilitet og beskytter underlaget mot varme og kjemisk korrosjon i ekstremt høye temperaturmiljøer .

Hardhet og slitestyrke: Silisiumkarbidbelegg har vanligvis høy hardhet, noe som gir utmerket slitestyrke og forlenger levetiden til underlaget.

Korrosjonsbestandighet: Silisiumkarbidbelegget er korrosjonsbestandig mot mange kjemikalier og kan beskytte underlaget mot korrosjonsskader.

Redusert friksjonskoeffisient: Silisiumkarbidbelegg har vanligvis en lav friksjonskoeffisient, noe som kan redusere friksjonstap og forbedre arbeidseffektiviteten til komponentene.

Termisk ledningsevne: Silisiumkarbidbelegget har vanligvis god varmeledningsevne, noe som kan hjelpe underlaget bedre å spre varme og forbedre varmeavledningseffekten til komponentene.

Generelt kan CVD-silisiumkarbidbelegget gi flere beskyttelse for underlaget, forlenge levetiden og forbedre ytelsen.


Grunnleggende fysiske egenskaper til CVD SiC-belegg:

Grunnleggende fysiske egenskaper til CVD SiC-belegg
Eiendom Typisk verdi
Krystallstruktur FCC β-fase polykrystallinsk, hovedsakelig (111) orientert
Tetthet 3,21 g/cm³
Hardhet 2500 Vickers hardhet (500 g belastning)
Kornstørrelse 2~10μm
Kjemisk renhet 99,99995 %
Varmekapasitet 640 J·kg-1·K-1
Sublimeringstemperatur 2700 ℃
Bøyestyrke 415 MPa RT 4-punkts
Youngs modul 430 Gpa 4pt bøy, 1300 ℃
Termisk ledningsevne 300W·m-1·K-1
Termisk ekspansjon (CTE) 4,5×10-6K-1


Produksjonsbutikker:


Oversikt over industrikjeden for halvlederbrikkeepitaxy:


Hot Tags: Wafer Carrier Tray, Kina, produsent, leverandør, fabrikk, tilpasset, kjøp, avansert, slitesterk, laget i Kina
Relatert kategori
Send forespørsel
Gi gjerne din forespørsel i skjemaet nedenfor. Vi svarer deg innen 24 timer.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept