VeTek Semiconductor er en ledende Solid SiC Etching Focusing Ring-produsent og innovatør i Kina. Vi har vært spesialisert på SiC-materiale i mange år. Solid SiC er valgt som et fokuseringsmateriale på grunn av sin utmerkede termokjemiske stabilitet, høye mekaniske styrke og motstand mot plasma erosjon. Vi ser frem til å bli din langsiktige partner i Kina.
Du kan være trygg på å kjøpe Solid SiC Etching Focusing Ring fra vår fabrikk. VeTek Semiconductors revolusjonerende teknologi muliggjør produksjon av Solid SiC Etching Focusing Ring, et silisiumkarbidmateriale med ultrahøy renhet laget gjennom prosessen med kjemisk dampavsetning.
Solid SiC etsningsfokusering brukes i halvlederproduksjonsprosesser, spesielt i plasmaetsesystemer. Den solide SiC-etsningsfokuseringsringen er en avgjørende komponent som bidrar til å oppnå presis og kontrollert etsing av silisiumkarbidskiver (SiC).
1. Fokusering av plasmaet: Den solide SiC-etsningsfokuseringsringen hjelper til med å forme og konsentrere plasmaet rundt waferen, og sikrer at etseprosessen skjer jevnt og effektivt. Det bidrar til å begrense plasmaet til ønsket område, og forhindrer etsing eller skade på de omkringliggende områdene.
2. Beskyttelse av kammerveggene: Fokusringen fungerer som en barriere mellom plasmaet og kammerveggene, og forhindrer direkte kontakt og potensiell skade. SiC er svært motstandsdyktig mot plasmaerosjon og gir utmerket beskyttelse for kammerveggene.
3. Temperaturkontroll: Fokusringen hjelper til med å opprettholde jevn temperaturfordeling over skiven under etseprosessen. Det hjelper til med å spre varme og forhindrer lokal overoppheting eller termiske gradienter som kan påvirke etseresultatene.
Solid SiC er valgt for fokusringer på grunn av sin enestående termiske og kjemiske stabilitet, høye mekaniske styrke og motstand mot plasmaerosjon. Disse egenskapene gjør SiC til et egnet materiale for de tøffe og krevende forholdene inne i plasmaetsesystemer.
Det er verdt å merke seg at utformingen og spesifikasjonene til fokusringene kan variere avhengig av det spesifikke plasmaetsesystemet og prosesskravene. VeTek Semiconductor optimerer formen, dimensjonene og overflateegenskapene til fokusringene for å sikre optimal etseytelse og lang levetid. Solid SiC er mye brukt for waferbærere, susceptorer, dummy wafer, guideringer, deler for etseprosess, CVD-prosess, etc.
Fysiske egenskaper til fast SiC | |||
Tetthet | 3.21 | g/cm3 | |
Elektrisitetsresistivitet | 102 | Ω/cm | |
Fleksibilitetsstyrke | 590 | MPa | (6000 kgf/cm2) |
Youngs modul | 450 | GPa | (6000 kgf/mm2) |
Vickers hardhet | 26 | GPa | (2650 kgf/mm2) |
C.T.E. (RT-1000℃) | 4.0 | x10-6/K | |
Termisk konduktivitet (RT) | 250 | W/mK |