Hjem > Produkter > Silisiumkarbidbelegg > Solid silisiumkarbid > Solid SiC Etching Fokusering Ring
Solid SiC Etching Fokusering Ring
  • Solid SiC Etching Fokusering RingSolid SiC Etching Fokusering Ring
  • Solid SiC Etching Fokusering RingSolid SiC Etching Fokusering Ring
  • Solid SiC Etching Fokusering RingSolid SiC Etching Fokusering Ring

Solid SiC Etching Fokusering Ring

VeTek Semiconductor er en ledende Solid SiC Etching Focusing Ring-produsent og innovatør i Kina. Vi har vært spesialisert på SiC-materiale i mange år. Solid SiC er valgt som et fokuseringsmateriale på grunn av sin utmerkede termokjemiske stabilitet, høye mekaniske styrke og motstand mot plasma erosjon. Vi ser frem til å bli din langsiktige partner i Kina.

Send forespørsel

produktbeskrivelse

Du kan være trygg på å kjøpe Solid SiC Etching Focusing Ring fra vår fabrikk. VeTek Semiconductors revolusjonerende teknologi muliggjør produksjon av Solid SiC Etching Focusing Ring, et silisiumkarbidmateriale med ultrahøy renhet laget gjennom prosessen med kjemisk dampavsetning.

Solid SiC etsningsfokusering brukes i halvlederproduksjonsprosesser, spesielt i plasmaetsesystemer. Den solide SiC-etsningsfokuseringsringen er en avgjørende komponent som bidrar til å oppnå presis og kontrollert etsing av silisiumkarbidskiver (SiC).


Under plasmaetsingsprosessen spiller fokusringen flere roller:

1. Fokusering av plasmaet: Den solide SiC-etsningsfokuseringsringen hjelper til med å forme og konsentrere plasmaet rundt waferen, og sikrer at etseprosessen skjer jevnt og effektivt. Det bidrar til å begrense plasmaet til ønsket område, og forhindrer etsing eller skade på de omkringliggende områdene.

2. Beskyttelse av kammerveggene: Fokusringen fungerer som en barriere mellom plasmaet og kammerveggene, og forhindrer direkte kontakt og potensiell skade. SiC er svært motstandsdyktig mot plasmaerosjon og gir utmerket beskyttelse for kammerveggene.

3. Temperaturkontroll: Fokusringen hjelper til med å opprettholde jevn temperaturfordeling over skiven under etseprosessen. Det hjelper til med å spre varme og forhindrer lokal overoppheting eller termiske gradienter som kan påvirke etseresultatene.

Solid SiC er valgt for fokusringer på grunn av sin enestående termiske og kjemiske stabilitet, høye mekaniske styrke og motstand mot plasmaerosjon. Disse egenskapene gjør SiC til et egnet materiale for de tøffe og krevende forholdene inne i plasmaetsesystemer.

Det er verdt å merke seg at utformingen og spesifikasjonene til fokusringene kan variere avhengig av det spesifikke plasmaetsesystemet og prosesskravene. VeTek Semiconductor optimerer formen, dimensjonene og overflateegenskapene til fokusringene for å sikre optimal etseytelse og lang levetid. Solid SiC er mye brukt for waferbærere, susceptorer, dummy wafer, guideringer, deler for etseprosess, CVD-prosess, etc.


Produktparameter for den solide SiC Etching Focusing Ring

Fysiske egenskaper til fast SiC
Tetthet 3.21 g/cm3
Elektrisitetsresistivitet 102 Ω/cm
Fleksibilitetsstyrke 590 MPa (6000 kgf/cm2)
Youngs modul 450 GPa (6000 kgf/mm2)
Vickers hardhet 26 GPa (2650 kgf/mm2)
C.T.E. (RT-1000℃) 4.0 x10-6/K
Termisk konduktivitet (RT) 250 W/mK


VeTek Semiconductor Production Shop


Hot Tags: Solid SiC Etching Focusing Ring, Kina, produsent, leverandør, fabrikk, tilpasset, kjøp, avansert, slitesterk, laget i Kina
Relatert kategori
Send forespørsel
Gi gjerne din forespørsel i skjemaet nedenfor. Vi svarer deg innen 24 timer.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept