LPE SiC Epi Halfmoon av VeTek Semiconductor, et revolusjonerende produkt designet for å heve LPE-reaktor SiC-epitaksiprosesser. Denne banebrytende løsningen har flere nøkkelfunksjoner som sikrer overlegen ytelse og effektivitet gjennom hele produksjonsoperasjonen. Ser frem til å etablere et langsiktig samarbeid med deg.
Som den profesjonelle produsenten vil VeTek Semiconductor gjerne gi deg høykvalitets LPE SiC Epi Halfmoon.
LPE SiC Epi Halfmoon av VeTek Semiconductor, et revolusjonerende produkt designet for å heve LPE-reaktor SiC-epitaksiprosesser. Denne banebrytende løsningen har flere nøkkelfunksjoner som sikrer overlegen ytelse og effektivitet gjennom hele produksjonsoperasjonen.
LPE SiC Epi Halfmoon tilbyr eksepsjonell presisjon og nøyaktighet, og garanterer jevn vekst og epitaksiale lag av høy kvalitet. Dens innovative design og avanserte produksjonsteknikker gir optimal waferstøtte og termisk styring, gir konsistente resultater og minimerer defekter.
I tillegg er LPE SiC Epi Halfmoon belagt med et premium tantalkarbid (TaC) lag, noe som forbedrer ytelsen og holdbarheten. Dette TaC-belegget forbedrer termisk ledningsevne, kjemisk motstand og slitestyrke betraktelig, og beskytter produktet og forlenger dets levetid.
Integreringen av TaC-belegget i LPE SiC Epi Halfmoon gir betydelige forbedringer i prosessflyten din. Det forbedrer termisk styring, sikrer effektiv varmespredning og opprettholder en stabil veksttemperatur. Denne forbedringen fører til økt prosessstabilitet, redusert termisk stress og forbedret totalutbytte.
Videre minimerer TaC-belegget materialforurensning, noe som muliggjør en renere og mer
kontrollert epitaksiprosess. Den fungerer som en barriere mot uønskede reaksjoner og urenheter, noe som resulterer i epitaksiale lag med høyere renhet og forbedret enhetsytelse.
Velg VeTek Semiconductors LPE SiC Epi Halfmoon for uovertrufne epitaksiprosesser. Opplev fordelene med dets avanserte design, presisjon og transformasjonskraften til TaC-belegget for å optimalisere produksjonsoperasjonene dine. Øk ytelsen din og oppnå eksepsjonelle resultater med VeTek Semiconductors bransjeledende løsning.
Fysiske egenskaper til TaC-belegg | |
Tetthet | 14,3 (g/cm³) |
Spesifikk emissivitet | 0.3 |
Termisk ekspansjonskoeffisient | 6,3 10-6/K |
Hardhet (HK) | 2000 HK |
Motstand | 1×10-5 Ohm*cm |
Termisk stabilitet | <2500℃ |
Grafittstørrelsen endres | -10~-20um |
Beleggtykkelse | ≥20um typisk verdi (35um±10um) |