CVD TAC belegg

CVD TaC Coating (kjemisk dampavsetning tantalkarbidbelegg) er et beleggprodukt hovedsakelig sammensatt av tantalkarbid (TaC). TaC-belegg har ekstremt høy hardhet, slitestyrke og høy temperaturbestandighet, noe som gjør det til et ideelt valg for å beskytte nøkkelutstyrskomponenter og forbedre prosesspålitelighet. Det er et uunnværlig materiale i halvlederbehandling.

CVD TaC Coating-produkter brukes vanligvis i reaksjonskamre, waferbærere og etseutstyr, og spiller følgende nøkkelroller i dem.

CVD TaC-belegg brukes ofte til interne komponenter i reaksjonskamre som underlag, veggpaneler og varmeelementer. Kombinert med sin utmerkede motstand mot høye temperaturer, kan den effektivt motstå erosjon av høytemperatur, etsende gasser og plasma, og dermed effektivt forlenge levetiden til utstyret og sikre stabiliteten til prosessen og renheten i produktproduksjonen.

I tillegg har TaC-belagte waferbærere (som kvartsbåter, inventar, etc.) også utmerket varmebestandighet og kjemisk korrosjonsbestandighet. Wafer-bæreren kan gi pålitelig støtte for waferen ved høye temperaturer, forhindre wafer-forurensning og deformasjon, og dermed forbedre det totale chip-utbyttet.

Dessuten er VeTek Semiconductors TaC-belegg også mye brukt i forskjellig etse- og tynnfilmavsetningsutstyr, som plasmaetsere, kjemiske dampavsetningssystemer osv. I disse prosesseringssystemene kan CVD TAC Coating motstå høyenergi-ionebombardement og sterke kjemiske reaksjoner , og sikrer dermed nøyaktigheten og repeterbarheten til prosessen.

Uansett hva dine spesifikke krav er, vil vi matche den beste løsningen for dine CVD TAC Coating-behov og ser frem til din konsultasjon når som helst.

Grunnleggende fysiske egenskaper til CVD TAC Coating:

VeTek Semiconductor CVD TAC Coating produkter butikker:

Oversikt over industrikjeden for halvlederbrikkeepitaxy: