SiC-belagt waferholder

VeTek Semiconductors SiC Coated Wafer Holder brukes vanligvis til å fikse og støtte wafere under halvlederbehandling. Det er en høy ytelseoblatbærermye brukt i halvlederproduksjon. Ved å belegge et lag med silisiumkarbid (SiC) på overflaten avsubstrat, kan produktet effektivt forhindre substratet fra korrosjon, og forbedre korrosjonsmotstanden og den mekaniske styrken til waferbæreren, noe som sikrer stabilitet og presisjonskrav til prosessprosessen.

SiC-belagt waferholderbrukes vanligvis til å fikse og støtte wafere under halvlederbehandling. Det er en høyytelses wafer-bærer som er mye brukt i halvlederproduksjon. Ved å belegge et lag medsilisiumkarbid (SiC)På overflaten av substratet kan produktet effektivt forhindre substratet fra korrosjon, og forbedre korrosjonsmotstanden og den mekaniske styrken til waferbæreren, noe som sikrer stabilitet og presisjonskrav til prosessprosessen.

Silisiumkarbid (SiC) har et smeltepunkt på ca. 2730°C og har utmerket varmeledningsevne på ca. 120–180 W/m·K. Denne egenskapen kan raskt spre varme i høytemperaturprosesser og forhindre overoppheting mellom waferen og bæreren. Derfor bruker SiC Coated Wafer Holder vanligvis silisiumkarbid (SiC) belagt grafitt som underlag.

Kombinert med den ekstremt høye hardheten til SiC (Vickers hardhet på ca. 2500 HV), kan silisiumkarbidbelegget (SiC) avsatt ved CVD-prosessen danne et tett og sterkt beskyttende belegg, som i stor grad forbedrer slitestyrken til SiC Coated Wafer Holder .

VeTek Semiconductors SiC Coated Wafer Holder er laget av SiC-belagt grafitt og er en uunnværlig nøkkelkomponent i moderne halvlederepitaksiprosesser. Den kombinerer på en smart måte den utmerkede termiske ledningsevnen til grafitt (varmeledningsevne er ca. 100-400 W/m·K ved romtemperatur) og mekanisk styrke, og den utmerkede kjemiske korrosjonsmotstanden og termiske stabiliteten til silisiumkarbid (smeltepunktet til SiC er ca. 2730°C), som perfekt oppfyller de strenge kravene til dagens avanserte halvlederproduksjonsmiljø.

Denne enkeltwafer-designholderen kan kontrollere nøyaktigepitaksial prosessparametere, som bidrar til å produsere høykvalitets, høyytelses halvlederenheter. Dens unike strukturelle design sikrer at waferen håndteres med størst mulig forsiktighet og presisjon gjennom hele prosessen, og sikrer dermed den utmerkede kvaliteten på det epitaksiale laget og forbedrer ytelsen til det endelige halvlederproduktet.

Som Kinas ledendeSiC belagtWafer Holder-produsent og leder, VeTek Semiconductor kan tilby skreddersydde produkter og tekniske tjenester i henhold til utstyret og prosesskravene dine.Vi håper inderlig å være din langsiktige partner i Kina.

Grunnleggende fysiske egenskaper til CVD SiC-belegg:

VeTek Semiconductor SiC Coated Wafer Holder Productions Butikker：