MOCVD LED Epi Susceptor

VeTek Semiconductor'sMOCVD LED Epi Susceptorer en kjernekomponent. I forberedelsesprosessen for halvlederenheter,MOCVD LED Epi Susceptorer ikke bare en enkel oppvarmingsplattform, men også et presisjonsprosessverktøy, som har en dyp innvirkning på kvaliteten, veksthastigheten, ensartetheten og andre aspekter av tynnfilmmaterialer.

Den spesifikke bruken avMOCVD LED Epi Susceptori halvlederbehandling er som følger:

Underlagsoppvarming og jevnhetskontroll:

MOCVD Epitaxy Susceptor brukes til å gi jevn oppvarming for å sikre stabil temperatur på substratet under epitaksial vekst. Dette er avgjørende for å oppnå høykvalitets halvlederfilmer og sikre konsistens i tykkelse og krystallkvalitet på epitaksiale lag over underlaget.

Støtte for kjemisk dampavsetning (CVD) reaktorkamre:

Som en viktig komponent i CVD-reaktoren, støtter Susceptor avsetningen av metallorganiske forbindelser på underlag. Det hjelper å nøyaktig konvertere disse forbindelsene til faste filmer for å danne de ønskede halvledermaterialene.

Fremme gassdistribusjon:

Utformingen av Susceptor kan optimere strømningsfordelingen av gasser i reaksjonskammeret, og sikre at reaksjonsgassen kommer i jevn kontakt med substratet, og dermed forbedre jevnheten og kvaliteten til epitaksiale filmer.

Du kan være trygg på å kjøpe tilpassetMOCVD LED Epi Susceptorfra oss, vi ser frem til å samarbeide med deg. Hvis du vil vite mer informasjon, kan du kontakte oss umiddelbart, og vi vil svare deg i tide!

Grunnleggende fysiske egenskaper til CVD SiC-belegg:

Produksjonsbutikker:

Oversikt over industrikjeden for halvlederbrikkeepitaxy：