Aixtron MOCVD-reseptor

Susceptorene produsert avVetek Semiconductorer laget av grafittsubstrat og silisiumkarbid (SiC) beleggmateriale. Gitt den høyere slitestyrken, korrosjonsmotstanden og ekstremt høye hardheten til SiC-materiale, er den spesielt egnet for bruk i tøffe prosessmiljøer. Derfor kan Susceptorene produsert av Vetek Semiconductor brukes direkte i høytemperatur MOCVD-prosesser uten ytterligere overflatebehandling.

Susceptorer er nøkkelkomponenter i halvlederproduksjon, spesielt i MOCVD-utstyr for tynnfilmavsetningsprosesser. Hovedrollen tilAixtron SiC-mottakeri MOCVD-prosessen er å bære halvlederskiver, sikre jevn og høykvalitets avsetning av tynne filmer ved å gi jevn varmefordeling og reaksjonsmiljø, og dermed oppnå høykvalitets tynnfilmproduksjon.

Aixtron MOCVD-reseptorbrukes vanligvis til å støtte og fikse bunnen av halvlederskiver for å sikre stabiliteten til skiven under avsetningsprosessen. Samtidig er overflatebelegget til Aixtron MOCVD Susceptor laget av silisiumkarbid (SiC), et svært varmeledende materiale. SiC-belegget sikrer jevn temperatur på overflaten av waferen, og jevn oppvarming er avgjørende for å oppnå filmer av høy kvalitet.

DessutenAixtron MOCVD-reseptorvi produserer spiller en større rolle i å kontrollere flyten og distribusjonen av reaktive gasser gjennom optimalisert design av materialer. Unngå virvelstrømmer og temperaturgradienter for å oppnå jevn filmavsetning.

Enda viktigere, i MOCVD-prosessen har silisiumkarbid (SiC) beleggmaterialet korrosjonsbestandighet, såVetek Semiconductor'sAixtron MOCVD-reseptortåler også høye temperaturer og etsende gasser.

Grunnleggende fysiske egenskaper vedSIC COATING:

VeTek Semiconductor Wafer Boat butikker:

Oversikt over industrikjeden for halvlederbrikkeepitaxy: